氫氣爐與真空爐區(qū)別
氫氣爐和真空爐都是用于高溫處理材料的熱處理設(shè)備，它們的主要區(qū)別在于使用的工作氣體不同。
氫氣爐使用氫氣作為工作氣體，而真空爐則是在高溫條件下采用真空環(huán)境。由于工作氣體的差異，氫氣爐和真空爐在材料處理方面有以下不同：
氫氣爐的作用：氫氣爐主要用于去除材料表面氧化物和其他雜質(zhì)，同時(shí)可改善材料的力學(xué)性能和耐腐蝕性能。氫氣爐處理溫度通常在500℃以上。
真空爐的作用：真空爐主要用于高溫下對(duì)材料進(jìn)行熱處理，可以進(jìn)行高溫?zé)Y(jié)、熱處理、熔煉等過程。真空爐通常能夠處理更高的溫度。

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